トリケミカル研究所の資料からわかったこと
- FY2024.4Q資料より
- 参考
なにやらいいことづくしだった前期の決算資料のFY2025計画。
不安になった1Qを尻目に2Qでしっかり化けてきました。
流石です。
なるほど、メモリの回復が思ったより早いと。
これは昨今の生成AI投資で騒いでいる「ど真ん中おじさん」たちの発言を見ても信憑性のある情報だと思います。
じゃあ早速high-k調べんと。
high-kとは
要するに、「DRAMに必要なリフレッシュ動作を減らすにはキャパシタの絶縁膜を比誘電率の高いものに切り替えなければならない」というのが昨今の課題となっているわけですね。
従来、high-k素材には酸化ジルコニウムや酸化アルミニウムが使用されていたが、最新のDRAM製造プロセスでは新素材「金属前駆体」が採用されています。
前駆体(プリカーサー)として注目されるハフニウム(Hf)
注目されるというのはちょっと語弊がありますが、成膜のプロセスであるALD法やCVD法で必要になるのが液体もしくは固体のプリカーサーであり、その成分はハフニウムのシェアが高いです。
ただし、正確にはプリカーサー半導体の製造プロセスで幅広く利用されているものであり、成膜のみに使われるものではありません。
この点ついてはこちらが参考になりました。
半導体前駆体の世界市場規模:会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の分析レポートYH Research | NEWSCAST
まぁ、私のような素人目には成膜から露光、エッチングあたりの工程は大きな違いが正直よくわかりません。
上記のレポートでもプリカーサーは
- シリコンプリカーサー
- メタルプリカーサー
- high-kプリカーサー
- low-kプリカーサー
と区別されるようです。
もうこの時点で、最初の記事ではメタルプリカーサーが重要って言ってたやんけ!!
とツッコミを入れたくなりますが、記者の解釈力によって情報がブレるのはあるあるです。
この辺を突き詰めすぎると私の頭ではパンクするので許してあげることにします😇
この記事から考える下馬評
- ADEKA(本命)
- これはもう隠しようがないのではっきり書いておきます。
- 半導体プリカーサーのシェアとしてはむしろトリケミカルより上だと記事にも記載されています。
- トリケミカルとの大きな違いはADEKAの主要取引先はSumsungなので、SumsungがやらかすとADEKAも引っ張られるということに注意したいです。
- KOKUSAI ELECTRIC(対抗)
- オプトラン(大穴)
- 生成AI相場が始まって静かなムーブをしてるこいつ。
- 何気に再注目された理由はALD装置。
- 有名垢のやるっつぇさんも最近注目しておられるようです。
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やるっつえのいつものやつぅ
— やるっつえぶらっきん (@7Y8k3d17SozCE0w) 2024年7月11日
オプトラン
光学薄膜の技術がアップルに認められ、採用を機に成長した
帰化中国人の経営で生産は中国
アップルのAIスマホ、アイフォン16今秋発売など、スマホ投資も回復し始めているが、今回のオプトランの復活は違う
新しい「柱」が成長し始めている
ズバリ「ALD装置」だ pic.twitter.com/btsKrM22kP
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昭和真空(その他)
- 成膜装置に必須なのは真空。
- ですが、ちょっとここまで広げると関連性は薄まると思います。
- アルバックが大好きなので一応書きたかっただけ。